本發(fā)明公開一種高反射、吸紫外陶瓷釉料，是在100重量份石英質基礎釉料中添加5～20重量份稀土材料，再添加水和甲基纖維素形成釉漿，釉漿施于陶瓷聚光腔坯體表面，低溫烘干后于1160-1200℃下燒釉制成陶瓷聚光腔，所述稀土材料為CeO#-[2]、La#-[2]O#-[3]和Sm#-[2]O#-[3]中的一種或兩種及兩種以上的組合。

 　　本發(fā)明提供的高反射、吸紫外陶瓷釉料可明顯的改善普通陶瓷聚光腔存在的缺點，具有耐強激光輻照、高絕緣、耐腐蝕、易清洗，吸紫外的特點。